사업소개​

국내 활성탄소제조용 원자재 공급시장 점유율 1위
해외시장 개척을 통해 다양한 시장에서의 성장의 비전을 가지고 있습니다.

化学吸着剤 (Catalyst)

産業有害ガス除去用（ガススクラバー用）化学吸着剤

X-BCl3
適用分野
イオン注入（Ion Implant）、エッシング（Ashing）、Epi、化学蒸着（CVD）プロ
セス、HCI、HF、HBr、BCl などの酸性ガス除去用
特徴
Appearance & Size: Pellet (ø=4.0 外)
Color : Brown
Bulk density : 0.6~0.7/cc
Crush strength : > 4kgf/㎠
Upper temp. limit : < 100℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
BCl3 BCl3 + 3MOH → 3MCl + B(OH)3 5
BCl3 + 3MO(OH) → 3MOCl + B(OH)
HBr 2HBr + M(OH)l2 → MBr2+ 2Hl2O 3
HCl 3HCl + MO(OH) → MCl3 + 2H2O 5
HF 6HF + M2O3 → 2MF3 + 3H2O 3
SiH4 SiH4 + 2MOH → M2Si + 2H2O + H2 5
X-Cl2
適用分野
イオン注入（Ion Implant）、エッシング（Ashing）、Epi、化学蒸着（CVD）工程、Cl2, F2など酸性ガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=2.2 外)
Color : White
Bulk density : 0.6~0.7g/cc
Crush strength : > 2.0kgf/㎠
Upper temp. limit : < 100℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
Cl2 Cl2 + 2MOH → 2MCl + H2O + 1/2 O2 1
Cl2 + M(OH)2 → MCl2 + H2O + 1/2 O2
X-Amines
適用分野
拡散（Diffusion）、化学蒸着（CVD）工程など、NH3, TMA、Amino-silaneなど塩基性ガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=4.0 外)
Color : Light brown
Bulk density : 0.8g/cc
Crush strength : > 4.0kgf/㎠
Upper temp. limit : < 100℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
NH3 4NH3 + MSO4 → M(NH3)4SO4 25
X-H2S
適用分野
拡散（Diffusion）工程、化学蒸着（CVD）工程など、 H₂S, H₂Se, PH₃, AsH₃などガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=3.0 外)
Color : Light blue
Bulk density : 0.8g/cc
Crush strength : > 2.0kgf/㎠
Upper temp. limit : < 50℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
Cl2 Cl2 + 2MOH → 2MCl + H2O + 1/2 O2 1
Cl2 + M(OH)2 → MCl2 + H2O + 1/2 O2
X-Amines
適用分野
拡散（Diffusion）、化学蒸着（CVD）工程など、NH3, TMA, Amino-silaneなど塩基性ガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=4.0 外)
Color : Light brown
Bulk density : 0.8g/cc
Crush strength : > 4.0kgf/㎠
Upper temp. limit : < 100℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
NH3 4NH3 + MSO4 → M(NH3)4SO4 25
X-H2S
適用分野
拡散（Diffusion）工程、化学蒸着（CVD）工程など、H₂S, H₂Se, PH₃, AsH₃などガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=3.0 外)
Color : Light blue
Bulk density : 0.8g/cc
Crush strength : > 2.0kgf/cm2
Upper temp. limit : < 50℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
H2S Cu(OH)2 + H2S → CuHS + 2H2O 5
2Cu(OH)2 + H2S → Cu2S + 4H2O
X-SiH4
適用分野
イオン注入（Ion Implant）、エッシング（Ashing）/エッチング（Etching）、Epi、化学蒸着（CVD）工程、SiH4などガス除去用
特徴
Appearance & Size : Pellet (ø=4.0 外)
Color : Purple
Bulk density : 0.7~0.75g/cc
Crush strength : > 2.0kgf/㎠
Upper temp. limit : < 100℃
Reaction Mechanism
Gas Mechanism TLV (ppm)
SiH4 SiH4 + 2MOH → M2Si + 2H2O + H2 5